Fuente de haz de plasma circular para uso multifuncional en varios tipos de sistemas.
El diseño de fuente es altamente escalable y se puede adaptar al hardware, siendo también el punto de vista físico y mecánico más favorable.
El Quatron-R se puede utilizar para la corrosión (grabado), recubrimiento, soporte para la deposición de vapor (PVD) o magnetrón y la generación de capas de óxido.
Fuente de plasma circular personalizable
Diseño ventajoso mecánico para una integración flexible en diferentes sistemas.
Amplia gama de aplicaciones
Adecuado para procesos de grabado, soporte PVD, IBS, formación de óxido y recubrimientos directos (por ejemplo, DLC).
Estabilidad del proceso con alta energía iónica
Rango de 20 a 1500 eV, haz neutro y paralelo sin carga estática. Posibilidad de altas densidades de corriente según la energía.
Funcionamiento multigás
Se pueden utilizar todos los gases de proceso; La mezcla ocurre dentro de la fuente para una máxima reactividad.
