Fonte de feixe de plasma circular para uso multifuncional em diversos tipos de sistemas.
O design da fonte é altamente escalável e pode ser adaptado ao hardware, sendo também a forma mais favorável do ponto de vista físico e mecânico.
A QUATRON-R pode ser utilizada para corrosão (etching), revestimento, suporte a processos de deposição por vapor (PVD) ou magnetron, e geração de camadas de óxido.
Fonte de plasma circular personalizável
Design mecanicamente vantajoso para integração flexível em diferentes sistemas.
Ampla gama de aplicações
Adequada para processos de etching, suporte a PVD, IBS, formação de óxidos e revestimentos diretos (ex: DLC).
Estabilidade de processo com alta energia iônica
Faixa de 20–1500 eV, feixe neutro e paralelo sem carga estática. Possibilidade de altas densidades de corrente conforme a energia.
Operação com múltiplos gases
Todos os gases de processo podem ser utilizados; a mistura ocorre dentro da fonte para máxima reatividade.
